[News] De nouveaux dispositifs sur silicium grâce à une combinaison de dépôts physique et chimique

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Redbran
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[News] De nouveaux dispositifs sur silicium grâce à une combinaison de dépôts physique et chimique

Message par Redbran » 30/01/2018 - 12:00:17

Des chercheurs de l'IES, en collaboration avec l'INL, ont réalisé des nanostructures d'oxydes ferroélectriques sur silicium en combinant l'épitaxie par jets moléculaires avec une méthode de dépôt chimique en phase aqueuse. Ces travaux, publiés en couverture dans la revue Small, ouvrent la voie à la réalisation de nouveaux dispositifs de capteurs et de mémoires. Les oxydes de type pérovskite, comme BaTiO3-δ, ont des propriétés électriques, optiques ou magnétiques intéressa...

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