[News] Electronique: un matériau congelant pour la technologie 22 nm
Publié : 12/04/2008 - 0:00:44
JSR Corporation, en partenariat avec le centre de recherche belge IMEC et le Centre de la Microélectronique Interuniversitaire, a créé un matériau lithographique innovant ouvrant la voie à l'élaboration de CMOS en finesse de gravure de 22 nm (nanomètres). La méthode la plus prometteuse pour obtenir cette finesse de gravure est le "double-patterning" qui emploie un double motif sur deux matériaux différents. Le matériau fabriqué par JSR, grâce à des propriétés réfrigér...