Au lycée, quand je m'intéressais à l'électronique, cela m'avait conduite à me poser quelques questions de chimie.
En effet : à l'époque les transistors utilisaient la technologie TTL, à base de silicium dopé au phosphore et à l'aluminium pour y créer des "trous" et des "charges".
Sur le tableau de classification, Al et P encadrent Si.
Héhéhé... sur la ligne du dessous, ce sont Ga et As qui encadrent Ge et je me rappelais que les antiques postes à galène de mon enfance - donc au PbS - avaient été remplacés par des postes à cristal de germanium.
On devrait donc peut-être s'intéresser à des semi-conducteurs à base de germanium, dopé au gallium et à l'arsenic, me disais-je, ce qui se faisait en réalité déjà dans les labos, ce fut la technologie CMos avec l'arséniure de gallium.
Cela me donna une autre idée : et sur la ligne du dessus ? Il doit bien y avoir des lascars qui gambergent, entre B et N qui encadrent C, mais le carbone n'est pas le silicium... donc je me disais que doper un substrat de silicium avec un élément du dessus et un du dessous, par exemple bore + arsenic ou azote + gallium... tilt ! Remplacer l'arséniure de gallium par du nitrure de gallium pouvait éventuellement constituer une piste à suivre.
D'autres eurent aussi cette idée, évidemment, et je suis bien contente de constater que la recherche progresse dans ce secteur-là, comme quoi on n'a pas que des idées débiles quand on est une brèle en chimie.
Cela m'a donné soif.
