[News] La lithographie extrême ultraviolet pour les futurs microprocesseurs

[Adrien]

Des chercheurs de l'Université d'Aix-la-Chapelle, de l'Institut Fraunhofer d'ingénierie laser d'Aix-la-Chapelle et de la société Philips ont mis au point un procédé de lithographie permettant de miniaturiser les puces en silicium avec toujours plus de précision. Les procédés actuels émettent un rayonnement ultraviolet (UV) d'une longueur d'onde de 193 nanomètres, permettant ainsi de graver des structures avec une finesse de trait de 50 nm. Afin de pouvoir augmenter la capacit�...

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[klinfran]

Les procédés actuels émettent un rayonnement ultraviolet (UV) d'une longueur d'onde de 193 nanomètres, permettant ainsi de graver des structures avec une finesse de trait de 50 nm

ce serait pas plutôt 500 nm?

[soa]

Non c'est bien 50nm.

Par contre je comprends pas trop ce qu'il a de neuf.

Intel et autres produisent déjà du 32nm en labo:
http://www.hardware.fr/news/9703/intel- ... -34nm.html

[buck]

oui c'est bien 50nm. PAr contre il y a une difference entre labo et production, en labo on peux se permettre de pousser les machines dans leurs derniers retranchement, en prod non car dans ce cas le rendement sera inoble. De plus en labo on monte des architectures specifiques pour aller en dessous de la finesse de gravure. Et enfin en labo on peux se permetrre d'utiliser la gravure au faisceau d'electron, mais il faut le temps

[klinfran]

ben alors en quoi c'est une avancée d'aller à moins de 45 avec une longueur d'onde 14 fois plus petite si c'est pour avoir à peine plus précis. D'autre part il y a des procédés pour éviter les problèmes de diffractions et autres du à la longueur d'onde, parce qu'avec 193 nm de longueur d'onde et 50 de trait, il y a un truc (mais je crois que j'ai déjà lu un article sur une technique qui permettait d'aller en dessous).

[buck]

LA je doit avouer que je sais plus, il va falloir que je fouille un peu pour te repondre.
Toujours etant l'ancienne longueur d'onde ne permettait (en prod) pas de descendre en dessous de 50nm.
En plus a cote de la litho il faut aussi avoir la bonne resine(positive ou negative) un environnement controle en matiere de lumiere ...