[News] UEV: vers une miniaturisation électronique inégalée
Publié : 06/11/2006 - 0:00:20
La lithographie extrême ultraviolet (EUV) fait actuellement l'objet d'intenses recherches dans le monde entier et ceci dans un effort international concerté. L'EUV est considérée maintenant comme la technologie la plus viable pour remplacer, aux alentours de 2009, la lithographie optique classique. Le rayonnement EUV fait partie de la gamme des X-mous, soit une longueur d'onde de 13,5 nm. La lithographie EUV permettra la production à grande échelle de puces dont les tailles de motifs sont ...