Óxido de hafnio: uma futura revolução no armazenamento de dados informáticos?

Publicado por Adrien,
Fonte: Proceedings of the National Academy of Sciences
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Os cientistas estão voltando sua atenção para o óxido de hafnio, ou hafnia, para revolucionar a memória informática. Este material, estudado, entre outros, por Sobhit Singh da Universidade de Rochester, poderia permitir o desenvolvimento de memórias ferroelétricas não voláteis, oferecendo assim uma alternativa mais rápida, menos dispendiosa e mais eficiente em termos energéticos em comparação com as tecnologias atuais.


O óxido de hafnio se destaca por sua capacidade de mudar de polarização elétrica sob a ação de um campo elétrico externo, uma propriedade crucial para a criação de memórias ferroelétricas. Essas memórias mantêm seus dados mesmo após serem desligadas, diferentemente da maioria das memórias utilizadas hoje. Contudo, o estado ferroelétrico do hafnia, necessário para essas aplicações, não é naturalmente estável em seu estado fundamental. Pesquisas anteriores conseguiram estabilizar esse estado somente em filmes finos, adicionando ítrio e aplicando resfriamento rápido.

Um avanço recente, no entanto, demonstrou que é possível estabilizar o óxido de hafnio em massa em suas formas ferroelétrica e antiferroelétrica por meio da aplicação de pressão, uma descoberta que abre caminho para sua utilização em tecnologias de armazenamento de dados e energia de próxima geração. Essa metodologia requer menos ítrio, reduzindo assim as impurezas e melhorando a qualidade do material.

O esforço colaborativo entre os cálculos teóricos e os experimentos de alta pressão conduzidos pela equipe da Professora Janice Musfeldt na Universidade do Tennessee, Knoxville, confirmou a viabilidade dessa abordagem. Agora, o objetivo é reduzir ainda mais o uso de ítrio para produzir hafnia ferroelétrica em massa, tornando essa tecnologia mais acessível para diversas aplicações.


O óxido de hafnio, numa fase cristalina específica, mostra propriedades ferroelétricas promissoras para o armazenamento de dados e o cálculo de alta performance.
Crédito: Ilustração da Universidade de Rochester / Michael Osadciw

Esta pesquisa sublinha a importância da colaboração interdisciplinar no avanço das tecnologias de memória informática. Enquanto o óxido de hafnio continua a despertar interesse por suas propriedades ferroelétricas únicas, os cientistas, liderados por Singh, buscam explorar ainda mais suas aplicações potenciais, prometendo assim uma revolução no domínio do armazenamento de dados.
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