Tétrafluorure de silicium

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Introduction

Tétrafluorure de silicium
Général
Synonymestétrafluorosilane
N CAS7783-61-1
N EINECS232-015-5
PubChem24556
SMILES
InChI
Apparencegaz incolore, d'odeur acre.
Propriétés chimiques
Formule bruteF4SiSiF4
Masse molaire104,0791 ± 0,0003 g·mol
Propriétés physiques
T° fusion-90 °C
ébullition-86 °C
Solubilitédans l'eau : réaction
Masse volumique1 660 kg·m à -95 °C

4,681 kg·m à 0 °C (gaz)
Point critique37,2 bar, -14,15 °C
Propriétés électroniques
1 énergie d'ionisation15,24 ± 0,14 eV (gaz)
Cristallographie
symbole de PearsoncI10
Classe cristalline ou groupe d’espaceI43m (n°217)
Précautions
Transport
-
1859
NFPA 704
Symbole NFPA 704

0

3

2

W
SIMDUT
A : Gaz compriméD1A : Matière très toxique ayant des effets immédiats gravesE : Matière corrosive

A, D1A, E,
Unités du SI & CNTP, sauf indication contraire.

Le tétrafluorure de silicium, également appelé tétrafluorosilane, est un composé du silicium de formule SiF4 qui se présente sous forme d'un gaz incolore dont la plage d'existence à l'état liquide est singulièrement étroite : entre -90 °C et -86 °C.

Utilisation

En microélectronique, le tétrafluorure de silicium est utilisé dans l'implantation ionique, et, en conjonction avec le silane (SiH4), pour le dépôt de silice fluorée par PECVD.